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等離子體測量光譜儀的參數及應用

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AvaSpec PlasLine系列等離子體測量光譜儀基于A(yíng)vantes公司的Avabench-75光學(xué)平臺,采用模塊化設計,可以配置成單通道、雙通道、四通道或多通道(多10通道)。每個(gè)通道可以設置不同的積分時(shí)間或信號平均次數,且各通道同步采集。

AvaSpec PlasLine系列光譜儀有兩種規格型號,AvaSpec-2048-x-USB2和AvaSpec-3648-x-USB2 (x代表通道數)。 可以實(shí)現波長(cháng)范圍200-1100nm、高分辨率0.1nm的等離子體光譜診斷。

AvaSpec-2048光譜儀可在接受外觸發(fā)信號僅延遲1.3 µs后開(kāi)始采樣(時(shí)間抖動(dòng)± 21 ns),也可發(fā)出TTL信號來(lái)觸發(fā)脈沖激光器或高壓脈沖電源,并可設置開(kāi)始采樣的時(shí)間延遲(-20 ns至89 sec,步長(cháng)21 ns),適用于需要快速響應或時(shí)序控制的應用。

AvaSpec-3648光譜儀的像素數多,光譜分辨率相對AvaSpec-2048光譜儀提高了約30%,但靈敏度降低了50%。

的AvaSpec-USB2.0平臺為多通道的應用提供了大可能的模塊化??梢酝ㄟ^(guò)*的Stroe to RAM功能實(shí)現多通道高速同步測量,大采樣頻率可達900幅光譜/秒(僅AvaSpec-2048光譜儀)。

AvaSpec PlasLine系列等離子體測量光譜儀的應用非常廣泛:
受控熱核聚變(托卡馬克); 
空間科學(xué)(等離子體推進(jìn)技術(shù)); 
生化處理(等離子體滅菌); 
微電子與信息產(chǎn)業(yè)(芯片的蝕刻); 
材料合成與處理(等離子體沉積和刻蝕);
國防(等離子體隱身技術(shù)); 
應用(LIBS技術(shù)); 
工業(yè)(焊接工藝)

 

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